首页标题     CEC-IBS - 氟化物设备
WeixinImage_20260220104449_717_5

CEC-IBS - 氟化物设备

德国CEC公司与汉诺威激光中心携手合作,共同开发离子束溅射镀膜设备,实现了在193纳米深紫外波长下高质量制备氧化物和氟化物薄膜的技术突破。该离子束溅射镀膜技术可沉积193纳米波长的氟化镁(MgF₂)、氟化镧(LaF₃)及氟化钙(CaF₂)薄膜。

德国汉诺威激光中心作为全球公认的激光与光学技术领域顶尖研究机构,凭借三十余年离子束溅射(IBS)镀膜技术的深厚积淀,持续推动基础研究、工艺创新与工程应用的深度融合。依托雄厚的科研实力、先进的实验平台及丰富的产业化经验,该中心成功孵化出专注于高精度IBS镀膜系统全生命周期服务的高科技企业——CEC有限公司。CEC整合自主研发、精密制造、系统集成及专业技术支持,致力于为全球高端光学制造客户提供高性能、高稳定性的IBS镀膜解决方案。其核心产品涵盖全自动离子束溅射镀膜设备及定制化工艺包。该设备在膜厚控制精度、成分均匀性、界面质量及长期运行稳定性方面达到国际领先水平,尤其适用于深紫外(DUV)波段等对光学性能要求严苛的应用场景。在关键的193纳米波长领域,CEC已建立起全面自主掌控的氟化物薄膜沉积技术体系。该体系涵盖高纯度氟化物靶材、